http://www.ras.ru/news/shownews.aspx?id=e135f26d-cd3c-4f41-b734-5c715c2ca1bc&print=1
© 2024 Российская академия наук
18 ноября в Российской академии
наук очно и в формате видеоконференцсвязи прошел Научный совет ОНИТ РАН «Фундаментальные
проблемы элементной базы информационно-вычислительных и управляющих систем и
материалов для ее создания». Заседание Научного совета провели председатель
Научного совета, академик-секретарь Отделения нанотехнологий и информационных
технологий РАН, академик РАН Г.Я. Красников, заместитель председателя Научного
совета член-корреспондент РАН В.Ф. Лукичев.
д.т.н. Зацаринный Александр
Алексеевич (ФИЦ ИУ РАН): «Актуальность проблем моделирования элементной
компонентной базы для информационно-управляющих систем в условиях цифровой
трансформации общества»;
н.с. Жевненко Дмитрий Алексеевич
(МФТИ, АО «НИИМЭ»): «Моделирование серии переключений мемристивной структуры»;
д.т.н. Петросянц Константин
Орестович (МИЭМ НИУ ВШЭ): «TCAD-SPICE моделирование субмикронных и нанометровых
элементов КМОП СБИС с учетом радиационных и тепловых эффектов в рамках
российско-китайского проекта»;
д.ф.-м.н. Абгарян Каринэ Карленовна
(ФИЦ ИУ РАН): «Проблемы моделирования многомасштабных систем»;
к.ф.-м.н. Шабельникова Яна
Леонидовна (ИПТМ РАН): «Ионно-лучевая литография: моделирование взаимодействия
ионов с органическими резистами»;
д.ф.-м.н. Сарычев Михаил Евгеньевич
(ФТИАН им. К.А. Валиева РАН). Моделирование отказов элементов металлизации
микро- и наноэлектронных устройств под действием электромиграции;
к.ф.-м.н. Теплов Георгий Сергеевич
(АО «НИИМЭ»): «Моделирование технологического процесса фотолитографии в
микроэлектронике с применением алгоритмов машинного обучения»;
Зенченко Николай Владимирович
(ИСВЧПЭ РАН): «Проблемы моделирования тепловых процессов в монолитных
интегральных схемах нитрида галлия на различных подложках»
Участники Научного совета обсудили проблемы
моделирования перспективной электронной компонентной базы с учетом широкого
спектра влияющих факторов, а также подходы к ускорению ее выпуска в части
оптимизации этапов подготовки и выполнения фото- и лучевой литографии.
Рассмотрены различные уровни моделирования от системообразующего в привязке к цифровой
трансформации общества России, до построения моделей в различных
пространственных и временных масштабах.